파크시스템스

나노계측 전문업체

파크시스템스

  • 코드 140860
  • 소속 KOSDAQ
  • 업종 의료, 정밀기기, 전자장비와기기
  • 테마 원자현미경, 나노계측, EUV마스크, 파운드리

투자 요약정보

  • 3D 구조인 FinFET, GAA, 고종횡비(HAR) 공정 적용이 확대되면서, 결함분석이나 공정 중 계측을 하는데 있어 원자현미경의 적용 범위가 커지고 있는데, FinFET에서 GAA Nanosheet로 공정이 전환됨에 따라 다층 구조의 깊이나 불투명성으로 인해 표면 거칠기나 기타 결함을 파악하는 것이 점점 더 어려워지고 있음
  • 이에 따라 동사의 원자현미경이 점점 더 많이 적용될 수 있을 것으로 전망되는데, 그 이유는 3D NAND와 DRAM 생산 시 미세한 결함 디테일을 구별해내어 빠르고 정확하며 높은 해상도로 결함을 측정해낼 수 있기 때문이며, 동사가 인수한 아큐리온의 ISE(이미지 타원 분광) 기술은 CD를 측정하고 형태를 파악하여 반도체 업체들의 쓰루풋 개선에 기여할 것으로 판단됨
  • 최근 AI 등 수많은 데이터를 응용한 어플리케이션들이 증가하면서, 빠른 해상도와 정확도가 요구됨에 따라 반도체 업체들은 단일 장비를 적용하는 대신 하이브리드 검사 계측 장비에 대한 필요성이 늘어나고 있으며, 이를 통해 공정 시간을 절약하고 팹내 공간 활용성이 높아지는 장점을 확보할 수 있을 것으로 판단됨
  • 출처: 현대차증권

이전 요약 정보 History

  • 동사는 3분기 매출액 357억원(YoY 65%), 영업이익 138억원(YoY 190%)을 기록하며 시장 전망치(영업이익 86억원)를 크게 상회했는데, 동사의 상반기 신규 수주 금액은 900억을 상회하고 있으며, 높은 영업이익률(39%)을 기록한 점에 주목할 필요가 있고, 단가가 높은 산업용 AFM의 비중이 상반기 대비 높아진 점이 주효한 것으로 판단됨
  • 동사의 4분기 실적은 매출액 418억원(YoY 16%), 영업이익 163억원(YoY 31%)으로 전망되는데, 다양한 고객사로 테스트 장비를 출고 예정이며, EUV 마스크용 장비는 EUV 장비 도입 증가와 함께 지속적인 수요 증가가 예상
  • OLEDoS 마이크로디스플레이 등 신규 수요처(XR 기기)에 따른 디스플레이 공정 고도화 추이도 동사의 디스플레이용 장비(NX-TSH)의 추가적인 수주 가능성을 높일 것으로 예상됨
  • 출처: 키움증권
  • 동사의 2Q22 매출액은 165억원(-7%QoQ, 33%YoY)으로 컨센서스(243억원) 보다 크게 낮았는데, 이는 중국 도시 봉쇄로 인한 물류난과 인도 시점이 지연되었기 때문으로, 지난 1H22 신규 수주는 907억원, 잔고는 835억원으로 사상 최대를 기록했으며, 3Q22부터 실적에 반영될 것으로 전망됨
  • 3Q22에도 신규 수주 흐름은 호조가 예상되는데, 연초 4대 수주했던 EUV 마스크 리페어 신장비의 경우 3Q22에 추가 수주가 예상되고, OLED용 AFM의 경우도 연초 국내 고객사로부터 2대 수주한데 이어 3Q22에 다른 고객사로부터도 신규 수주가 예상됨
  • 6개월의 리드타임을 고려 시, 상반기 수주 호조는 하반기 실적으로 반영될 것으로 전망되며, 또한 올해 사상 최대 신규 수주는 내년에도 21% 매출 고성장세를 시현할 것으로 기대됨
  • 출처: BNK투자증권
  • 동사의 2Q22 연결 실적은 매출액 278억원(+56% QoQ, 123% YoY), 영업이익 62억원(+952% QoQ, 흑자전환 YoY)의 호실적으로 예상되며, 4Q21 말 수주잔고 209억원과 1Q22 매출액 178억원, 1Q22 말 수주잔고 631억원(+135% YoY)을 고려시, 1Q22 신규 수주는 600억원 수준으로 추정됨
  • 이는 2021년 연간 수주액인 920억원(+32% YoY)의 65%에 해당되는데, 역대급 수주 배경은 반도체 시장 내 웨이퍼향 원자현미경 수주 호조 지속과 후공정, 포토마스크 계측 및 리페어, 디스플레이로의 다변화 때문인 것으로 판단됨
  • 특히 포토마스크 계측 및 리페어향 원자현미경은 WLI(White Light Interferometry, 백색광간섭계) 솔루션 활용으로 ASP가 상승하고, EUV용 포토 마스크향 수요도 높을 것으로 전망
  • 출처: SK증권
  • 동사는 원자현미경(AFM) 기반 나노계측 전문업체최근 국내 최초로 EUV용 마스크 검사장비를 개발했는데, 해당 장비는 마스크 손상 없이 결함을 검사 및 개선할 수 있는 장비이며 현재 글로벌 주요 파운드리 업체들과 장비 테스트 과정을 거치고 있어, 조만간 공급 여부가 확정될 것으로 알려짐
  • EUV는 기존 공정에서 활용되던 불화아르곤(ArF) 대비 파장이 14분의 1로 짧아 더 미세한 회로를 구현할 수 있는 게 특징으로, 극미세 공정이 가능한만큼 마스크 오염 검사도 더 촘촘하고 정밀하게 해야 하는데, 이는 EUV 마스크 가격이 장당 5억~10억원에 달할 정도로 고가인 만큼, 먼지 등의 미세한 오염물질이 있을 경우에도 마스크 손상으로 인한 비용 손실이 크기 때문
  • 그동안 일본의 레이저텍이 개발한 화학선(자외선의 일종)을 활용한 EUV용 마스크 검사장비는 생산량이 적고 가격이 비싸 도입이 쉽지 않은 상황이었지만, 동사가 개발한 EUV용 마스크 검사장비는 화학선이 아닌 원자현미경을 기반으로, 마스크의 결함은 물론, 결함 분석과 개선 기능까지 동시에 구현할 수 있는 장점을 가짐
  • 원자현미경은 미세한 탐침을 시료 표면에 원자 단위까지 접근시켜, 여기서 발생하는 원자 간의 힘을 통해 표면의 원자 구조를 측정하는 나노계측장비로, 최고 수십만 배의 배율을 가진 전자현미경(SEM)보다 최고 수천만 배의 배율을 갖췄으며, 시료의 전자기적·기계적·광학적 특성 등 다양한 물리적 성질을 나노미터(nm) 수준에서 분석하고, 물체를 조작할 수 있으며, 국내에서 원자현미경을 생산할 수 있는 업체는 동사가 유일
  • 동사가 개발한 장비는 현재 글로벌 파운드리 기업에 1대가 납품돼 테스트가 진행되고 있는 것으로 알려졌으며, 테스트의 결과에 따라 추가 공급이 가능할 것으로 판단됨
  • 출처: 디일렉